加入收藏
|
设为首页
首 页
中心介绍
中心动态
研究成果
人才招聘
联系我们
宏观政策研究
专利分析研究
专利分析和预警
技术发展预见
国家重大科技专项
地方重大经济活动
行业企业战略规划
统计调查研究
热点追踪与评议
中心刊物
行业企业战略规划
首页 > 研究成果 > 专利分析研究 > 行业企业战略规划
2007年北方微电子PVD溅射与等离子刻蚀机专利分析
来源:
国家知识产权局知识产权发展研究中心
时间:
2007-4-26 17:40:43
被阅读次数:
3135
全面研究了PVD溅射及等离子刻蚀机相关专利技术的整体态势、区域分布、技术特征以及主要申请人情况,着重针对北方微电子的PVD溅射及等离子刻蚀机的相关技术进行了深入的对比分析和研究。
友情连接
网站建设
版权所有:国家知识产权局知识产权发展研究中心
地址:北京市海淀区蓟门桥西土城路6号 电话:010-62083816 传真:010-62083849
ICP备案编号:京ICP备12014623号-2
京公网安备11010802009518号